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當社のレーザー平面瞬間加熱裝置をご紹介します。
下記の製品カテゴリから各製品の基本情報およびPDFカタログ、関連情報などがご覧いただけます。
＜シリコン微細構造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野?用途におけるMEMSデバイスの高性能?高信頼性を実現！＞
東北大學 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術を用いた水素雰囲気アニールによる立體構造の平滑化と丸め制御新技術を、H30～R2年度サポイン事業により東北大?産総研?ミニマルファブ推進機構との共同開発で製品化しました。
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ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱裝置です。
レーザー平面加熱裝置「エックス?レーザー」にコンパクト設計?小面積加熱を実現した「ライト」が新登場！
世界最先端のヒーティングシステム「レーザー平面瞬間加熱裝置ExLASER®(エックス?レーザー)に、卓上型タイプが誕生。 コンパクト設計により、研究?試験等、様々なシーンで利用できます。
ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱裝置です。
＜シリコン微細構造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野?用途におけるMEMSデバイスの高性能?高信頼性を実現?。?/b>
東北大學 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術を用いた水素雰囲気アニールによる立體構造の平滑化と丸め制御新技術を、H30～R2年度サポイン事業により東北大?産総研?ミニマルファブ推進機構との共同開発で製品化しました。
