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    原?レベルアンチエイリアス熱処理ミニマル裝置(ミニマルレーザ水素アニール裝置)

    <シリコン微細構造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野?用途におけるMEMSデバイスの高性能?高信頼性を実現!>
    東北大學 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術を用いた水素雰囲気アニールによる立體構造の平滑化と丸め制御新技術を、H30~R2年度サポイン事業により東北大?産総研?ミニマルファブ推進機構との共同開発で製品化しました。

    特長

    • φ12.5mmウェハ(枚葉処理)
    • コンパクトな筐體(幅約30cm)
    • クリーンルーム不要
    • 低消費電力(定格AC100V 10A)
    • 超高真空対応(5 × 10 -5 Pa 以下)
    • 急速昇降溫(1100℃まで2.5秒)
    • 安定した溫度制御(1100℃±0.5℃)
    • 均一溫度分布(ばらつき(σ/Ave.)0.5%)

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